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IMEC計劃擴充研發(fā)18寸晶圓廠
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歐洲研究機構(gòu)IMEC計劃擴充其12寸旗艦晶圓廠以提升產(chǎn)能，并計劃在2010年出開始提供試產(chǎn)用的超紫外光微影(extremeultravioletlithography)工具。該研究機構(gòu)的總裁暨執(zhí)行長GilbertDeclerck亦透露，IMEC位于比利時Leuven的辦公據(jù)點與制造產(chǎn)能擴充，是為了迎接18寸晶圓時代所做的準備。 Declerck補充表示，IMEC的8寸晶圓無塵室產(chǎn)能已經(jīng)滿載，12寸晶圓無塵室則接近滿載。該機構(gòu)持續(xù)擴充其尖端技術(shù)能力，除了是要追隨摩爾定律(Moore’sLaw)朝更細微制程節(jié)點邁進，所正在進行的系統(tǒng)級封裝(system-in-packaging)、3D芯片、微機電系統(tǒng)(MEMS)、生物科技與光電科技研究，也都需要更大的活動空間。 他表示，如此的策略是由IMEC的董事會與該機構(gòu)位于各地區(qū)的據(jù)點所共同決定的，IMEC近期會公布詳細的擴充與投資計劃。目前IMEC在荷蘭Eindhoven的HolstCenter以及臺灣新竹，各有一個附屬研發(fā)據(jù)點。
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| 來源（電氣市場網(wǎng)：http://www.xiangtz.com） |